日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)設(shè)計了一種新型極紫外（EUV）光刻技術(shù)，超越了半導(dǎo)體制造業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)界限。這項技術(shù)能讓光刻設(shè)備使用較小的EUV光源，降低了成本，同時提升了機(jī)器的可靠性并延長了其使用壽命。新設(shè)計使得功耗降低至傳統(tǒng)EUV光刻機(jī)的十分之一，有助于推動半導(dǎo)體行業(yè)的可持續(xù)發(fā)展。
（科技日報記者 張夢然 趙衛(wèi)華）
